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平面硅靶 Si
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PVD鍍膜一般指在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求. 光學鍍膜料主要用途分為復合膜,彩色膜,增透膜,透紫外膜,激光裝置濾光片,保護膜,透明導電膜,變色膜,優良的寬帶增透膜,磁性薄膜,可見光區增透膜,紅外增透膜,分光膜,多層膜,高反射膜,電阻膜,熱反射膜,冷光燈、冷光碗,各種鏡片鍍膜等。光學鍍膜作用廣泛,膜料品種多樣,(塔基特靶材)為各類鍍膜企業提供各種鍍膜材料。

主要有靶材:硅靶、鈮靶、錫靶、鈦靶、銦錫靶、氧化鈮靶。


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